さ行

CVD

Chemical Vapor Deposition。 IC等の製造工程で、基板上にシリコンなどの薄膜を作る工業的手法。シリコン酸化膜、 シリコン室化膜、 アモルファスシリコン薄膜などの製造に用いられる。その過程で化学反応を用いるので、 このように呼ばれる。

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